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“157nm干式光刻机受到波长的限制，制程工艺只能达到75nm，不如bSEc浸润式光刻机的65nm，而且在提高制程工艺方面的难度较大，难以满足晶圆厂家对先进制程工艺的要求；157纳米技术还有一个先天的困难，由于光波易被吸收，需要氟化钙镜头，氟化钙是一种新型镜头材料，制作难度大，每次结晶需要3个月时间，并且质量难以控制，价格高昂。我建议公司立即开始研发浸润式光刻机，虽然同bSEc和GcA相比已经晚了，但极有可能赶上被纯净水介质核心技术专利困扰的ASmL。”
7月18日，全球第一条65nm半导体生产线在pGcA量产的消息传到尼康半导体公司，上下震动很大，虽然尼康157nm干式光刻机随时可以量产，但由于制程工艺低于bSEc浸没式光刻机，到如今没有晶圆厂家愿意订购，ASmL浸没式光刻机虽然受到专利困扰没有量产，但GcA浸没式光刻机已经量产，三家主流光刻机公司走134nm浸没式光刻机路线，Nikon和canon等两家继续走157nm干式光刻机路线，但市场已经给出了答案，pGcA、ttFAb（曙光东芝）、台联电、Intel和Amd订购了5条bSEc浸没式光刻机构成的导体生产线，台积电预定了一条ASmL浸没式光刻机构成的导体生产线，同为日本半导体协会会员的晶圆公司瑞萨科技和尔必达如今还处于观望之中。
以前支持Nikon研发157nm干式光刻机的芯片龙头Intel见到bSEc浸润式光刻机问世后，放弃了对157nm干式光刻机的支持，对花费10多亿美元巨资研发157nm干式光刻机的Nikon和canon造成重大打击。
尼康半导体公司高层争议很大，其中以尼康美国研究公司的总裁兼cEo托马斯·诺利克的反对意见最大。
尼康半导体公司如今处于技术发展的十字路口。
力推157nm干式光刻机的前会长，如今的顾问吉田一郎召集现任会长兼cEo森佳照明、常务副总裁原田弘树、副总裁兼尼康半导体研究所所长小川郁子、财务副总裁梅根·兰布林和托马斯·诺利克等高层到公司总部商议对策。
托马斯·诺利克首先开炮，建议公司立即开始研发浸润式光刻机，还有希望赶上主流路线。
吉田一郎在尼康半导体公司担任过社长、会长（董事长）兼cEo等职务，在半导体光刻机领域有着深厚的造诣和丰富的经验，对尼康半导体业务的发展有着深远的影响，虽然退居二线，但在公司还有巨大的权威。
尼康美国研究公司是尼康半导体公司的子公司，主要从事半导体光刻机相关的研究和开发公司。
“虽然如今157nm干式光刻机的制程工艺低于134nm浸没式光刻机，但干式光刻环境相对简单，不需要考虑液体介质的纯度、流动性、对光刻胶和晶圆的影响等相关问题，工艺控制相对容易，设备的维护和保养也相对简单一些；公司在157nm干式光刻路线上投入了近10亿美元巨资，掌握了核心技术，领先全球，虽然暂时处于劣势，但我们可以沿着既定的技术路线稳步推进，只要能率先研发成功45nm制程工艺的干式光刻机，就能一举扭转我们被动的现状，继续引领光刻机的发展方向；我们现在重新投入巨资开始研发浸没式光刻机，除了一直追赶bSEc和ASmL外，也将面临bSEc拥有的多项核心技术专利限制，如浸没式双工作台系统核心技术专利，流体处理系统核心技术专利、折返式投影核心技术专利、纯净水介质核心专利，要是bSEc不给我们授权纯净水介质核心专利，请问诺利克先生如何解决纯净水介质核心专利难题？”
尼康半导体公司会长兼cEo森佳照明在尼康公司拥有超过25年的经验，在美国、欧洲和韩国的销售和营销方面担任过高层，深得前会长吉田一郎的赏识。
“会长，我听说，ASmL如今等待bSEc的国际纯净水介质核心专利通过后授权，既然bSEc同意授权ASmL，就会授权我们，bSEc当年拿到双工作台系统的国际专利后也授权给了我们。”
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